語言 :
SWEWE 會員 :登錄 |註冊
搜索
百科社區 |百科問答 |提交問題 |詞彙知識 |上傳知識
上一頁 1 下一頁 選擇頁數

電子束曝光

電子束曝光是用低功率密度的電子束照射電致抗蝕劑,經顯影后在抗蝕劑中產生圖形的一種微細加工技術。

對正性抗蝕劑,在顯影后經電子束照射區域的抗蝕劑被溶解掉,而未經照射區域的抗蝕劑則保留下來;對負性抗蝕劑則情況相反。

電子束曝光有投影(又稱為電子束面曝光)和掃描(又稱為電子束線曝光)兩種工作方式。電子束投影方式與光刻過程類似,是將掩模版上的圖形轉換成襯底表面介質的圖形的過程。

這種曝光方式分辨率高、掩膜版製作容易、工藝容限

大,而且生產效率高,但由於電子束在光刻膠膜內的散射,

使得圖案的曝光劑量會受到臨近圖案曝光劑量的影響(即臨

近效應),造成的結果是,顯影后,線寬有所變化或圖形畸

變。雖然如此,限角度投影式電子束光刻仍是目前最具前景

的非光學光刻 。

  


上一頁 1 下一頁 選擇頁數
用戶 評論
還沒有評論
我要評論 [遊客 (3.235.*.*) | 登錄 ]

語言 :
| 校驗代碼 :


搜索

版权申明 | 隐私权政策 | 版權 @2018 世界百科知識