電子束曝光是用低功率密度的電子束照射電致抗蝕劑,經顯影后在抗蝕劑中產生圖形的一種微細加工技術。
對正性抗蝕劑,在顯影后經電子束照射區域的抗蝕劑被溶解掉,而未經照射區域的抗蝕劑則保留下來;對負性抗蝕劑則情況相反。
電子束曝光有投影(又稱為電子束面曝光)和掃描(又稱為電子束線曝光)兩種工作方式。電子束投影方式與光刻過程類似,是將掩模版上的圖形轉換成襯底表面介質的圖形的過程。
這種曝光方式分辨率高、掩膜版製作容易、工藝容限
大,而且生產效率高,但由於電子束在光刻膠膜內的散射,
使得圖案的曝光劑量會受到臨近圖案曝光劑量的影響(即臨
近效應),造成的結果是,顯影后,線寬有所變化或圖形畸
變。雖然如此,限角度投影式電子束光刻仍是目前最具前景
的非光學光刻 。
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